如何判斷EDI水處理設(shè)備是否被污染？

EDI水處理設(shè)備優(yōu)點

連續(xù)電除鹽（EDI，Electro-deionization或CDI，Continuous Electrode ionization），是利用緩和離子交換樹脂吸附給水中的陰陽離子，同時這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下，分別透過陰陽離子膜而被去除的過程。此過程離子交換樹脂不需要用酸和堿再生。這一新技術(shù)可以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的離子交換（DI）裝置，生產(chǎn)出電阻高達18 MΩ?cm的超純水。EDI超純水設(shè)備應(yīng)用在反滲透系統(tǒng)之后，取代傳統(tǒng)的混床離子交換技術(shù)生產(chǎn)穩(wěn)定的超純水。

EDI技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有以下優(yōu)點：

    1、水質(zhì)穩(wěn)定

    2、容易實現(xiàn)全自動控制

    3、不會因再生而停機

    4、不需化學(xué)再生

    5、運行費用低

    6、廠房面積小

    7、無污水排放

EDI水處理設(shè)備

    雖然EDI模塊的進水條件在很大的程度上減少了模塊內(nèi)部阻塞的機會，但是隨著水處理設(shè)備運行的時間的延展，EDI模塊內(nèi)部水道還是有可能產(chǎn)生堵塞，這主要是EDI進水中含有較多的溶質(zhì)，在濃水室中形成脫鹽的沉淀。如果進水中含有大量的該鎂離子（硬度超過0.8ppm）、co2和較高的PH值，將會加快沉淀的速度。遇到這種情況，我們可以通過化學(xué)清洗的方法對EDI模塊進行清洗，使之恢復(fù)到原來的技術(shù)特性。

    一、通常判斷EDI模塊被污染堵塞可以從以下幾個方面進行評估判定：

    1、在進水溫度、流量不變的情況下，濃水進水側(cè)與產(chǎn)水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%。

    2、在進水溫度、流量不變的情況下，濃水進水側(cè)與濃水排水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%。

    3、在進水溫度、流量及電導(dǎo)率不變的情況下，產(chǎn)水水質(zhì)（電阻率）明顯下降。

    4、在進水溫度、流量不變的情況下，濃水排水量下降35%。

    二、模塊堵塞的原因主要有下面的幾種形式：

    1、顆粒/膠體污堵

    2、無機物污堵

    3、有機物污堵

    4、微生物污堵

 EDI清洗注意：

    在清洗或消毒之前先選擇合適的化學(xué)藥劑并熟悉安全操作規(guī)則，切不可在組件電源沒有切斷的狀態(tài)下進行化學(xué)清洗。

EDI組件中的離子交換樹脂可以分為兩部分，一部分稱作工作樹脂，另一部分稱作拋光樹脂，二者的界限稱為工作前沿。工作述職承擔(dān)著除去大部分離子的任務(wù)，而拋光樹脂則承擔(dān)著去除弱電解質(zhì)等較難清除離子的任務(wù)。

EDI給水的預(yù)處理是EDI實現(xiàn)性能和減少設(shè)備故障的首要前提條件。給水里的污染物會對出演組件有負(fù)面影響，增加維護量并降低膜組件的壽命。